由法国CEA-Leti领衔的研究团队在《Nature Electronics》发表突破性成果,开发出基于硅掺杂氧化铪(Si-doped HfO₂)的统一内存堆栈。这种创新架构将铁电电容器(FeCAP)和忆阻器集成于单一后端工艺(BEOL),通过简单的电形成操作即可实现两种存储模式切换,无需额外掩模工艺[1][2]。
关键技术突破包括:1)采用钛俘获层金属-铁电-金属堆栈制备;2)创新设计18,432单元混合阵列(16,384 FeCAP单元 + 2,048 忆阻器单元);3)FeCAP负责存储高精度10位有符号整数,忆阻器存储模拟权重;4)通过无源数字模拟转换实现直接权重传输[1][3]。